- [检测百科]分享：工业纯钛TA2的电解抛光/腐蚀工艺2025年05月22日 14:39
- 对工业纯钛TA2的电解抛光/腐蚀的电解液配方和工艺参数进行了研究与优化，得到的最佳电解液配方是90 mLHF，20 g（NH4）2S2O8，200 mL CH3CH2OH，360 mL H2O，与之匹配的工艺参数是抛光电压50 V，电解液流量20 mL/s，抛光时间50 s，电解抛光/腐蚀后得到的试样表面平整，组织清晰，无污染，且制样时间短，较机械抛光/腐蚀有很大的进步，采用该配方，调整相应工艺参数便可电解抛光其他钛合金材料。
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